■ 1日目（10月31日［金］）

12:30～　受付

13:30～13:40　開会挨拶　杉野目 道紀（京都大学、ケイ素化学協会会長）

13:40～14:25　受賞講演（協会賞）　（座長：河内 敦）

友岡 克彦（九州大学 先導物質化学研究所）

「有機ケイ素分子の立体化学と反応に関する研究」

14:25～14:45　トピックス講演1　（座長：五十嵐 正安）

井本 裕顕（京都工芸繊維大学）

「精密分子設計によるシルセスキオキサン材料の開発」

14:45～15:05　トピックス講演2　（座長：斎藤 雅一）

亀尾 肇（大阪公立大学）

「強固な結合切断を基盤とする有機ケイ素化合物の変換」

15:05～15:25　休憩

15:25～16:10　招待講演1　（座長：下嶋 敦）

藤川 茂紀（九州大学）

「シリコーン系自立ナノ膜を用いた大気からの直接的CO₂回収」

16:10～16:35　受賞講演（技術賞）　（座長：郡司 天博）

兒島 和彦、堀 誠司、脇田 万里、三木 佑太郎、潮 裕子（ダウ・東レ株式会社）

「シリコーンによるフッ素系繊維用撥水剤の代替技術」

16:35～16:50　休憩・ポスター発表準備

16:50～17:35　ポスター発表（前半）

17:35～18:20　ポスター発表（後半）

19:00～20:30（→終了時間21:00に変更）　夕食（懇親会）

20:30～22:30（→21:00〜23:00に変更)　二次会（地酒パーティー）

 

■ 2日目（11月1日［土］）

7:00～8:45（→6:45〜7:45に変更）　朝食

　※重要：朝食会場と講演会場が同じため、7:45までに食事を終えるようご協力をお願いいたします。

8:45～9:15　総会・表彰式

9:15～10:00　招待講演2　（座長：松川 公洋）

小川 誠（信州大学）

「シリカ被覆で設計する粉体の機能」

10:00～10:20　トピックス講演3　（座長：仲 章伸）

石田 真太郎（東北大学）

「安定ジアルキルシリレンを用いた不活性結合の変換反応」

10:20～10:35　休憩

10:35～10:50　賛助会員R&D紹介1　（座長：竹平 章良）

福寿 忠弘（株式会社トクヤマ）

「球状シリカエアロゲル「エアリカ™︎」の紹介」

10:50～11:05　賛助会員R&D紹介2　（座長：竹平 章良）

中村 優希（株式会社エア・リキード・ラボラトリーズ）

「エア・リキード・ラボラトリーズの研究開発」

11:05～11:50　招待講演3　（座長：大下 浄治）

橋本 久子（東北大学）

「カルビン錯体の高周期類縁体の新たな展開」

11:50～12:00　閉会挨拶　海野 雅史（群馬大学、ケイ素化学協会副会長）

■ ポスターセッション（10月31日（金）　奇数番号：16:50〜17:35　偶数番号：17:35〜18:20）

 

P01 シリル置換基を有する炭素架橋オリゴフェニレンビニレン(COPV)誘導体の合成と有機固体レーザーへの応用

(1神奈川大理、2University of Alicante)　◯服部 結子1、Álex Farrando-Pérez2、Angela Martínez2、佐々木 海渡1、布引 秀和1、José M. Villalvilla2、Pedro G. Boj2、José A. Quintana2、María A. Díaz-García2、辻 勇人1

P02 グルコース修飾ポリシルセスキオキサンの合成と防曇特性

(広島大院先進理工系)　〇佐々木 奏佳、安達 洋平、大下 浄治

P03 ヘテロ原子サイトの環境が制御されたかご型シロキサン系化合物の合成

(1早大先進理工、2早大材研、3東大院新領域)　◯筒井 瑶子1、村松 奏紀1、林泰毅2,3、松野敬成1,2、下嶋 敦1,2

P04 モリブデン−ゲルミリン三重結合錯体が触媒するニトリルの二重ヒドロホウ素化反応

(東北大学)　◯Christof Fontanilla、長田 浩一、橋本 久子

P05 新規バタフライケイジの合成と官能基化

(群馬大院理工)　◯山口 滉生、武田 亘弘、海野 雅史、Liu Yujia 

P06 革新的な非対称ラダーシロキサンの設計と合成

(群馬大院理工)　◯嶋村 光起、武田 亘弘、海野 雅史、Liu Yujia

P07 直鎖アルキル基で安定化された単分散シリコンナノ粒子の合成

(近畿大学)　◯石 欣鷺、中野 秀之

P08 層状水素化シリカン(HSi)の水素放出・吸蔵特性

(1近畿大学、2東京科学大学)　◯中井 美緒1、清原 和志1、伊藤 裕那2、宮内 雅浩2、中野 秀之1

P09 ホウ素置換シリルリチウムを用いたα, β-不飽和カルボニル化合物との共役付加反応

(1法政大院理工、2法政大生命)　◯門田 侑也1、河内 敦2

P10 重いボリレンの環開裂から得られるジゲルマビニルアニオンの単離

(京大化研)　◯任 喆、西野 龍平、山田 容子、時任 宣博、水畑 吉行

P11 置換基配列の異なるテトラシランの合成と光物性の評価

(1法政大院理工、2法政大生命)　◯府川 将也1、河内 敦2

P12 ヤヌス特性を有する有機シラノール類の合成と超分子構造

(相模中研)　◯田中 陵二

P13 多環芳香族炭化水素のメカノケミカルBirchシリル化

(名古屋大学院理)　◯三河 咲太、遠山 祥史、伊藤 英人

P14 構造制御されたSi-Si結合を有する新規ジシリル化合物の創出および10族金属種との反応性評価

(1東大院工、2東大生研)　◯本多 隆人1、和田 啓幹1,2、砂田 祐輔1,2

P15 ホウ素触媒重合によるかご型オクタシロキサン連結可溶性ポリマーの合成と自立膜の作製

(鹿児島大院理工)　◯北郷 優斗、金子 芳郎

P16 カルボキシ基を部分導入した高分子量ポリメチルビニルシロキサンを基盤としたCO2分離膜の開発

(1鹿児島大院理工、2九大WPI-I2CNER)　◯山口 幸輔1、藤川 茂紀2、金子 芳郎1

P17 Polysilane担持ニッケル触媒による芳香族化合物の水素化反応

(1東大院工、2東大生研)　◯馬場 大夢1、砂田 祐輔1,2

P18 3–スチリルインドールへのシリレン移動反応による含ケイ素環状化合物の合成

(京都工芸繊維大)　◯岡島 空舞、鳥越 尊、大村 智通

P19 アミノプロピル基含有all-cis環状テトラシロキサンを用いたかご型化合物の合成とゲスト包接

(1鹿児島大院理工、2阪大院工)　◯清野 優弥1、藤内 謙光2、金子 芳郎1

P20 ヒドロキシ基を部分導入した高分子量ポリメチルビニルシロキサンを用いたCO2分離膜の開発

(1鹿児島大院理工、2九大WPI-I2CNER)　◯中島 優1、藤川 茂紀2、金子 芳郎1

P21 亜鉛触媒、1,2-ジエンならびにシリルボランから触媒的に発生させたβ-シリルアリル亜鉛中間体によるカルボニル化合物のアリル化反応

(京大院工)　◯鈴木 慧、仙波 一彦、藤原 哲晶

P22 テンプレート重合による可溶性ラダー状ポリメチルシルセスキオキサンの創製

(鹿児島大院理工)　◯石川 智大、金子 芳郎

P23 カルボキシ官能化POSSを用いた樹脂基板に適用可能な低温硬化型防曇ハードコーティングの開発

(鹿児島大院理工)　○馬場 凜乃音、金子 芳郎

P24 アミノ（ボリル）シランを用いた無触媒シリレン移動反応による2-(β-スチリル）ベンゾフランの多重修飾

(京都工芸繊維大)　◯岡本 良紀、鳥越 尊、大村 智通

P25 シリル基のかさ高さを利用したアトロプ選択的なアリールペンタレンの合成

(1九大先導研、2九大院総理工)　◯岩本 航輝2、関根 康平1,2、國信 洋一郎1,2

P26 亜鉛触媒による1,3-ジエン、シリルボランならびにケトンの三成分連結反応

(京大院工)　◯榊原 一斗、鈴木 慧、仙波 一彦、藤原 哲晶

P27 環状アルキルボリルシリレンの発生

(東北大院理)　◯櫻田 尚輝、小池 太智、石田 真太郎、岩本 武明

P28 シロキサン構造制御による酸化チタン複合ゾル-ゲル材料のインプリント性向上

(東レ株式会社)　◯芦部 友樹、篠原 夏美、諏訪 充史

P29 カルバモイル基を有するシランの合成と性質

(1東京理科大学、2産総研)　◯山本 凌雅1、五十嵐 正安2、山本 一樹1、郡司 天博1

P30 ポリフォスファシロキサンの合成とその木材難燃剤としての評価

(東理大創域理工)　◯飯島 真尋、今井 智大、山本 一樹、郡司 天博

P31 N−ヘテロ環状カルベンをドナーとするアミノプルンビレンの合成と性質

(埼玉大院理工)　◯渡邉 亮太、中田 憲男

P32 架橋基と熱分解性基を導入した新規高耐熱性断熱材の開発

(1広島大学院先進理工系、2マツダ（株）)　◯筒井 皓脩1、森田 泰博1,2、古賀 広之1,2、安達 洋平1、大下 浄治1

P33 Q単位骨格をもつアルコキシ置換多面体オリゴシロキサンの新規合成法開発

(産総研)　◯石橋 弥泰、野澤 竹志、西鳥羽 俊貴、松本 朋浩、八木橋 不二夫、佐藤 潤一、佐藤 一彦、牧野 孝太郎、諸田 美砂子、田中 真司、内田紀行、五十嵐 正安

P34 π縮環ヘテロシクロヘプタトリエンの合成検討

(相模中研)　◯森迫 祥吾、磯田 恭佑

P35 Q8DMSとアルカンジオールとの共重合体の合成とその性質

(東理大院創域理工)　◯小野里 颯汰、今井 智大、山本 一樹、郡司 天博

P36 POSS12を利用したガス分離膜

(1東理大院創域理工、2産総研)　◯小川 悠1、五十嵐 正安2、今井 智大1、山本 一樹1、郡司 天博1

P37 ジベンゾシレピニドの超共役的反芳香族性に対するカウンターカチオン効果

(お茶大院人間文化)　◯小林 加奈、桑原 拓也

P38 Si–O結合メタセシスを活用した環拡大反応による中員環骨格の構築

(1産総研、2茨城大院理工)　◯中村 彩乃1,2、長江 春樹1、松本 和弘1,2

P39 オリゴジフェニルシロキサンの重合度－物性相関研究

(1産総研、2茨大院理工)　◯上ノ坊 拓磨1,2、長江 春樹1、竹内 勝彦1、南川 博之1、松本 和弘1,2

P40 スタンナシクロペンタジエニリデン―イソシアニド錯体の単離とその反応　

(埼玉大院理工)　◯和田 一樹、斎藤 雅一

P41 第14族単原子で架橋された第10族金属クラスターの合成

(1東大院工、2東大生研)　◯大鶴 航世1、砂田 祐輔1,2

P42 環状テトラシロキサンのシリル化誘導体を用いた銅(II)含有シルセスキオキサンの合成

(早大先進理工)　◯柴田 明璃、岩上 健、疋野 拓也、彌富 昌、松野 敬成、下嶋 敦

P43 銅触媒を用いたビニルシランの光化学的アルキルマグネシウム化反応

(京大院理)　◯下川 淳、阿部 ほのか、依光 英樹

P44 アニオン性環状ケイ素化合物の骨格異性化

(東北大院理)　◯石川 朋樹、赤坂 直彦、石田 真太郎、岩本 武明

P45 直交的なシラノール保護基を活用したキラルアルコキシシラノールのエナンチオマー選択的合成

(1熊大院自然、2九大院総理工、3熊大院先端科学、4九大先導研)　◯月見 葵1、野崎 素良2、前野 万也香3、河崎 悠也2、井川 和宣3、友岡 克彦4

P46 シリルおよびゲルミル(アリール)チオケトンの反応性: 脱芳香族化を伴うカスケード環化反応

(学習院大理)　○増田 涼介、黒木 大生、齋藤 拓武、草間 博之

P47 ルイス塩基触媒による位置選択的なアリルシランおよびアレニルシランの合成

(京大院工)　◯溝田 強、佐々木 麻朱、仙波 一彦、藤原 哲晶

P48 イミノホスホナミド配位子を有するジアミノシリカートとアミノシリレンとの相互変換

(埼玉大院理工)　◯宮原 哉太, 渡邉 亮太, 太田 圭, 中田 憲男

P49 キラルシラメチルヒドリンダンの立体選択的合成と高度官能基化

(1熊大院自然、2九大院総理工、3熊大院先端、4九大院先導研)　◯田代 香奈1、黒尾 明弘2、柿木 智行2、井川 和宣3、友岡 克彦2,4

P50 オルトケイ酸の六角柱型12量体からなる水素結合性無機構造体の創出

(産総研)　◯西鳥 羽俊貴、松本 朋浩、八木橋 不二夫、佐藤 潤一、佐藤 一彦、五十嵐 正安

P51 モデルベースによるPSQ炭酸ガス分離膜の開発

(広大院先進理工系)　◯大下 浄治、洞田 勝博、原 和希、兼松 佑典、安達 洋平

P52 かさ高いEind基を有するテトラブロモジシロキサンの合成と還元反応

(近畿大理工)　◯迫田 功士、太田 圭、松尾 司

P53 嵩高いアリール基を有するイミノホスホナミドクロロシリレンと10族遷移金属(II)錯体との反応

(埼大院理工)　◯蓼沼 裕理乃、太田 圭、中田 憲男

P54 精密重合を基盤とするシロキサン含有ブロック共重合体の調製と分子鎖凝集構造評価

(1阪工大院工、2阪工大)　◯篠田 永遠1、中村 吉伸2、藤井 秀司2、平井 智康2　

P55 カゴ型シロキサン誘導体を利用した新規円偏光発光材料開発

(1阪工大院工、2阪工大)　◯三好 康正1、中村 𠮷伸1,2、藤井 秀司2、平井 智康2　

P56 ヒドロキシエチル尿素基を有するポリシルセスキオキサンを基盤とする防曇コーティング

(1広大院先進理工系、2近大院システム工学)　◯リン シキン1,2、張 典1、安達 洋平1、白石 浩平2、大下 浄治1　

P57 (MeO)EPind基を有するジアリールスタンニレンの合成と酸化反応

(1近畿大理工、2理研 CEMS)　◯今井 瑞紀1、上野 優斗1、前原 祐貴1、松井 琴美1、川瀨 結里有1、太田 圭1、橋爪 大輔2、松尾 司1　

P58 かさ高いRind基を有するジヒドロシリルリチウムの合成と反応

(1近畿大学、2鳥取大学)　○森廣 公貴1、竹内 悠貴1、太田 圭1、南条 真佐人2、松尾 司1　

P59 ナフタレンとアダマンタンを組み込んだ二座配位子をもつスピロシランの合成と還元

(学習院大学理)　◯米井 雅春、高橋 慎太郎、狩野 直和　

P60 鉄触媒によって付加反応硬化する熱伝導性シリコーン材料の研究

(1富士高分子工業株式会社、2北里大理)　◯片石 拓海1、神谷 昌宏2　

P61 ピレニルケイ素化合物によって架橋された光酸協働分解性ヒドロゲルの開発

(1東大総合文化、2東大院工、3JSTさきがけ)　◯川野 勇太郎1、正井 宏1,2,3、寺尾 潤1　

P62 かさ高いxMEind基を有するハロスタンニレンの合成と反応性

(近畿大理工)　◯野田 和津萌、黒川 秀真、松尾 司

P63 かさ高いRind基を有するケイ素不飽和環状化合物の合成と反応性

(近畿大理工)　◯黒川 秀真、大野　稜真、太田 圭、松尾 司

P64 イリジウム触媒によるヒドロシランからの分子間シリレントランスファー反応の開発

(京大院工)　◯宋 ユンハオ、杉野目 道紀

P65 新規立体保護基を用いたケイ素化合物の合成

(近大理工)　◯松井 琴美、今井 瑞紀、上野 優斗、森廣 公貴、松尾 司

P66 ノルボルネニル基を有する分岐鎖状シロキサンの合成

(JNC石油化学株式会社)　◯大野 貴也、渡辺 尚樹、藤馬 大亮